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半金属及半导体材料分析方法

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标准编号 标准名称 状态 发布日期
GB/T 38976-2020 硅材料中氧含量的测试 惰性气体熔融红外法 即将实施 2020-07-21
GB/T 14849.1-2020 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 即将实施 2020-03-06
GB/T 14849.3-2020 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定 即将实施 2020-03-06
GB/T 37385-2019 硅中氯离子含量的测定 离子色谱法 现行 2019-03-25
GB/T 37211.2-2018 金属锗化学分析方法 第2部分:铝、铁、铜、镍、铅、钙、镁、钴、铟、锌含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 现行 2018-12-28
GB/T 37211.1-2018 金属锗化学分析方法 第1部分:砷含量的测定 砷斑法 现行 2018-12-28
GB/T 4059-2018 硅多晶气氛区熔基磷检验方法 现行 2018-12-28
GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法 现行 2018-12-28
GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 现行 2018-09-17
GB/T 4060-2018 硅多晶真空区熔基硼检验方法 现行 2018-09-17
GB/T 35306-2017 硅单晶中碳、氧含量的测定 低温傅立叶变换红外光谱法 现行 2017-12-29
GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程 现行 2017-12-29
GB/T 34504-2017 蓝宝石抛光衬底片表面残留金属元素测量方法 现行 2017-10-14
GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法 现行 2015-12-10
GB/T 32277-2015 硅的仪器中子活化分析测试方法 现行 2015-12-10
GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法 现行 2015-12-10
GB/T 17170-2015 半绝缘砷化镓单晶深施主EL2浓度红外吸收测试方法 现行 2015-12-10
GB/T 19199-2015 半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法 现行 2015-12-10
GB/T 26067-2010 硅片切口尺寸测试方法 现行 2011-01-10
GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 现行 2011-01-10
GB/T 26074-2010 锗单晶电阻率直流四探针测量方法 现行 2011-01-10
GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量 被代替 2008-06-09
GB/T 4059-2007 硅多晶气氛区熔基磷检验方法 现行 2007-09-11
GB/T 4060-2007 硅多晶真空区熔基硼检验方法 现行 2007-09-11
GB/T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法 现行 2007-09-11
GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 现行 2006-07-18
GB/T 4326-2006 非本征半导体单晶霍尔迁移率和霍尔系数测量方法 现行 2006-07-18
GB/T 5252-2006 锗单晶位错腐蚀坑密度测量方法 现行 2006-07-18
GB/T 8757-2006 砷化镓中载流子浓度等离子共振测量方法 现行 2006-07-18
GB/T 8758-2006 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法 现行 2006-07-18
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